Elektroda.pl
Elektroda.pl
X

Wyszukiwarki naszych partnerów

Wyszukaj w ofercie 200 tys. produktów TME
Kategoria: Kamery IP / Alarmy / Automatyka Bram
Montersi
Proszę, dodaj wyjątek elektroda.pl do Adblock.
Dzięki temu, że oglądasz reklamy, wspierasz portal i użytkowników.

ASML chwali się krokiem milowym w technologii ekstremalnego ultrafioletu

ghost666 17 Lip 2017 09:40 1098 0
  • ASML chwali się krokiem milowym w technologii ekstremalnego ultrafioletu
    Zajęło to znacznie więcej czasu i kosztowało o wiele więcej pieniędzy, niż ktokolwiek mógł przypuszczać, ale przemysł półprzewodnikowy wreszcie zdaje się rozpoczynać korzystanie z litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) na masową skalę w procesach produkcji.

    Na targach Semicon West, firma zajmująca się technologiami litograficznymi, ASML prezentowała swoje najnowsze osiągnięcie - źródło promieniowania EUV o mocy 250 W. Jest to poważny krok milowy tak dla samej firmy, jak i dla całego sektora. ASML od dawna pracowała nad tym urządzeniem. Moc źródła promieniowania - czyli de facto ilość fotonów, jaka dostarczona zostanie do podłoża krzemowego w systemie litograficznym - jest niezwykle istotna, ponieważ bezpośrednio przekłada się na zdolności produkcyjne całego systemu. Moc 250 W, jak ustalili producenci urządzeń półprzewodnikowych, pozwala na osiągnięcie prędkości produkcji na poziomie 125 wafli (podłóż krzemowych) na godzinę. Dotychczasowo niezdolność firm zajmujących się systemami litograficznymi - ASML i Cymer (który zakupiony został przez ASML w 2013 roku) - do dostarczenia źródła o mocy co najmniej 250 W była poważną barierą dla implementacji i rozwoju systemów litografii EUV w przemyśle.

    Michael Lercel, dyrektor marketingu strategicznego w ASML, powiedział podczas prezentacji nowego źródła o mocy 250 W, że "źródło jest raczej spójne z zrozumieniem mocy i wydajności przez przemysł półprzewodnikowy". Jak dodał Lercel "zastosowane systemy dają dobrą kontrolę nad emisją". Firma poinformowała, że tego rodzaju systemy nie zostały jeszcze wysłane do klientów.

    Wiodący producenci układów scalonych, tacy jak Intel, Samsung, TSMC czy Globalfoundries planują w ciągu najbliższych dwóch lat zastosować systemy do litografii EUV w swoich liniach produkcyjnych. ASML prezentowało w lutym tego roku system o wydajności około 104 wafli na godzinę, aczkolwiek przedstawiciele firmy mówili, że docelowa prędkość tego typu systemów wynieść ma 125 wafli na godzinę. Było to jeszcze przed opracowaniem nowego, 250 W źródła promieniowania EUV.

    Nowe, 250 watowe źródło to poważny krok milowy dla firmy - 10 krotnie, od roku 2012, zwiększyła ona moc produkowanego źródła EUV. Jak wspomina Lercel, jeszcze z czasów swojej pracy w Cymerze, osiągnięcie 250 W zawsze "zaplanowane było na kolejny rok".

    ASML opracowało już w swojej 14 narzędzi do litografii. Łącznie urządzenia tej firmy naświetliły już ponad milion podłóż, z czego połowę - ponad 500 tysięcy wafli - w ostatnich 12 miesiącach, jak wskazuje Lercel. Dostawy nowego narzędzia EUV - NXE:3400B - rozpoczęły się już w tym roku.

    W kwietniu ASML informowało, że 21 systemów litografii EUV jest obecnie dostarczanych do zamawiających - większość dedykowane jest dla Intela. Kolejna aktualizacja informacji o dostawach spodziewana jest wraz z publikacją danych finansowych za II kwartał tego roku, co powinno mieć miejsce w tym tygodniu.

    Rozwój technologii litografii EUV prześledzić można aż do lat '70 XX wieku, gdy okazało się, że litografia promieniowaniem rentgenowskim nie sprawdzi się w warunkach produkcyjnych. Przemysł półprzewodnikowy miał wtedy nadzieję, że technologie oparte na EUV uda się wprowadzić do produkcji na początku obecnej dekady... jak widać odrobinę się mylił i termin uległ opóźnieniu. Jak szacują analitycy, sektor półprzewodnikowy wydał łącznie ponad 20 miliardów dolarów na rozwój systemów EUV do litografii. Czy było warto? opinie są rozbieżne.

    Krytycy technologii EUV nie przestają być sceptyczni wobec sukcesu tego rodzaju litografii, niezależnie od sukcesów ASML na tym polu. "Wiele ludzi nadal mówi, że to się nie uda, ale ASML z powodzeniem realizuje swoje kolejne cele" mówi G. Dan. Hutcheson, analityk i weteran przemysłu półprzewodnikowego, pełniący rolę dyrektora VLSI Research Inc. "Z pewnością zajęło to dużo czasu, ale wreszcie udaje nam się dotrzeć do celu".

    Oprócz osiągnięcia milowego kroku jeśli chodzi o moc źródła, jak mówi Lercel, firmie udało się wprowadzić w międzyczasie szereg innych usprawnień w zakresie systemów EUV, dotyczących innych elementów - siatek, masek i fotorezystów.

    Obecnie wiele oczu skupia się na ekonomicznej stronie wykorzystania EUV w produkcji. Od dawna wiadomo, że koszt linii do litografii EUV - ponad 100 milionów dolarów za sztuk - jest poważnym problemem dla popularyzacji tej technologii. Jednakże, jak zauważają przedstawiciele ASML, jeśli porówna się wydajność 125 wafli na godzinę wraz z ekonomicznymi zyskami z tytułu wykorzystania litografii EUV zamiast kilkukrotnego - trzy lub czterokrotnego - naświetlania podłóż metodami bardziej tradycyjnej litografii imersyjnej, kontrast nie wydaje się już tak ogromny. "Jeśli porówna się koszty kilkukrotnego wykorzystania litografii immersyjnej, wraz z koniecznymi dodatkowymi zadaniami, takimi jak czyszczenie, pomiary etc - EUV stanie się nagle tańsze w ujęciu kosztów na warstwę w porównaniu z już potrójnym naświetlaniem w litografii immersyjnej, nie mówiąc już o poczwórnym czy więcej etapowym procesie litograficznym" komentował Lercel. "Dodatkowo, oprócz przyspieszenia procesu i zmniejszenia jego kosztów, fakt zmniejszenia ilości procesów podczas produkcji układu, sprawia, że maleje prawdopodobieństwo powstawania defektów w wytwarzanych układach".

    "Wierzymy, że technologia EUV jest bardzo ekonomicznym sposobem skalowania litografii dla technologii przyszłości" podsumowuje Lercel. "Zrobiliśmy istotny postęp w tym zakresie w ostatnim czasie i sprawiliśmy, że systemy te spełniają pokładane w nich przez przemysł półprzewodnikowy oczekiwania dotyczące bycia co najmniej tak dobrymi jak systemy litografii immersyjnej oraz osiągania wydajności powyżej 100 wafli na godzinę. Dojście do tego miejsca sprawiło, że jesteśmy już w punkcie, w którym wysyłamy naszym klientom gotowe systemy produkcyjne" podsumował Lercel.

    Źródło: http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1332012

 
Promocja -20%
Zamknij 
Wyszukaj w ofercie 200 tys. produktów TME
tme