Analitycy branżowi informują, że nowe narzędzie litograficzne do nanodruku firmy Canon będzie potrzebować jeszcze kilku lat, aby dorównać sprzętowi EUV dostarczanemu wyłącznie przez ASML, twórcę najbardziej zaawansowanych na świecie układów scalonych. W zeszłym tygodniu Canon zaczął promować rozwiązanie nanoimprint FPA-1200NZ2C, które odbija obwód maski na krzemowej płytce. Ta technologia różni się od optycznego mechanizmu stosowanego w narzędziach ASML EUV do projekcji wzoru na maskę.
Rozwiązanie od firmy Canon stoi jednak przed kilkoma przeszkodami, w tym brakiem precyzji i potencjalnymi ograniczeniami w sprzedaży sprzętu do Chin, mówią eksperci dla EE Times. „Ciężko będzie osiągnąć jakość porównywalną z EUV za pomocą technologii nanoimprint” — powiedział Cedric Rolin, kierownik programu w organizacji badawczej do spraw R&D w dziedzinie półprzewodników w imec. Poziom defektywności nanoimprintu jest: „dość wysoki”, jak to określił. Przez co najmniej dwa lata pozycja ASML jako jedynego na świecie dostawcy sprzętu litograficznego zdolnego do produkcji układów scalonych o rozmiarze węzła 2 nm i niżej, jest prawdopodobnie bezpieczna, dodał Gaurav Gupta, wiceprezes ds. badań w firmie Gartner. Zauważył również, że sprzęt Canona prawdopodobnie podlegał będzie kontrolom eksportowym, które zablokowałyby dostęp Chin do zaawansowanej litografii. „Jeśli zadziała, a sprawność i wydajność zostaną odpowiednio dopracowane, oczekiwałbym, że zajmie to przynajmniej dwa do trzech lat lub dłużej, zanim zostanie przyjęty w produkcji na dużą skalę” — wskazał. „Oczywiście przy założeniu, że będzie robić to, co obiecuje. Z mojego doświadczenia z takimi przełomowymi ogłoszeniami wynika, że trwa to znacznie dłużej, zanim zobaczymy perspektywę na realizację”.
W oświadczeniu prasowym Canon stwierdził, że jego technologia nanoimprint umożliwia tworzenie wzorów z minimalną szerokością linii 14 nm, co jest równe technologii 5 nm. Z dalszym doskonaleniem technologii maski, litografia nanoimprint umożliwić ma przygotowywanie wzorów obwodów z minimalną szerokością linii 10 nm, co odpowiada węzłowi 2 nm, jak zapewniła firma. Gupta powiedział, że dowodem na skuteczność technologii będzie jej komercyjne przyjęcie. „Nabrałbym większej pewności, gdyby jakiś producent układów scalonych ją wdrożył, a następnie ogłosił, że sprawność i wydajność są równoważne lub zbliżone do konwencjonalnej litografii. Ponadto, jeśli może działać w węźle 5 nm, to oznacza, że może operować w węźle 28 nm lub 14 nm bez problemu. Jak to się dzieje, że nikt w Japonii ani nigdzie indziej jeszcze tego nie wdrożył? Jeśli jest tak obiecująca, dlaczego czekać, aby technologia była gotowa tylko w węźle 5 nm, dlaczego nie w starszym czy dojrzałym, gdzie mogłoby to być łatwiejsze?” — pyta analityk.
Nanoimprint może mieć potencjalne zastosowania w produkcji układów pamięci, które są bardziej tolerancyjne na problemy związane z defektywnością niż logika, wskazał Robert Maire, prezes Semiconductor Advisors, w biuletynie dostarczonym EE Times. Nanoimprint działa w niższej rozdzielczości i jest daleki od bycia rzeczywistym, wysokowydajnym rozwiązaniem produkcyjnym, dodał. „Defektywność i kalibracja są wiecznymi problemami i ograniczeniami nanoimprintu” — powiedział Maire. „Chwalimy firmę Canon za znakomite postępy, jakie dokonała dzięki nieustannej inżynierii, z której znane są japońskie firmy, ale podstawowe ograniczenia techniczne wciąż istnieją”.
Jedną z zalet narzędzia nanoimprint jest mniejszy ślad węglowy, twierdzi Canon. Ponieważ nowy produkt nie wymaga źródła światła o specjalnej długości fali, może znacznie zmniejszyć wykorzystanie energii w porównaniu z urządzeniami fotolitograficznymi, donosi firma. Sprzęt EUV od ASML zużywa dużo zasobów do wyparowywania kropli cyny, które emitują światło EUV o bardzo krótkiej długości fali wynoszącej 13,5 nanometra. Canon zakupił część technologii nanoimprint, gdy w 2014 roku przejął firmę Molecular Imprints z Teksasu, informuje Maire. To może sprawić, że narzędzie Canona będzie podlegać weryfikacjom eksportowym USA w odniesieniu do wrażliwej technologii w stosunku do Chin. Współpraca japońskiego rządu z USA w zakresie kontroli eksportu ograniczy również zdolność Państwa Środka do pozyskania takiego rozwiązania, dodał Gupta. „Jeśli okaże się, że technologia jest na tyle gotowa i dojrzała, aby wspierać zaawansowaną logikę, jestem pewien, że Stany Zjednoczone będą w stanie współpracować z japońskim rządem, aby dodać ją, w określonych granicach, do eksportu do Chin”.
Źródło: https://www.eetimes.com/canon-litho-tool-years-from-commercial-use-analysts-say/
Rozwiązanie od firmy Canon stoi jednak przed kilkoma przeszkodami, w tym brakiem precyzji i potencjalnymi ograniczeniami w sprzedaży sprzętu do Chin, mówią eksperci dla EE Times. „Ciężko będzie osiągnąć jakość porównywalną z EUV za pomocą technologii nanoimprint” — powiedział Cedric Rolin, kierownik programu w organizacji badawczej do spraw R&D w dziedzinie półprzewodników w imec. Poziom defektywności nanoimprintu jest: „dość wysoki”, jak to określił. Przez co najmniej dwa lata pozycja ASML jako jedynego na świecie dostawcy sprzętu litograficznego zdolnego do produkcji układów scalonych o rozmiarze węzła 2 nm i niżej, jest prawdopodobnie bezpieczna, dodał Gaurav Gupta, wiceprezes ds. badań w firmie Gartner. Zauważył również, że sprzęt Canona prawdopodobnie podlegał będzie kontrolom eksportowym, które zablokowałyby dostęp Chin do zaawansowanej litografii. „Jeśli zadziała, a sprawność i wydajność zostaną odpowiednio dopracowane, oczekiwałbym, że zajmie to przynajmniej dwa do trzech lat lub dłużej, zanim zostanie przyjęty w produkcji na dużą skalę” — wskazał. „Oczywiście przy założeniu, że będzie robić to, co obiecuje. Z mojego doświadczenia z takimi przełomowymi ogłoszeniami wynika, że trwa to znacznie dłużej, zanim zobaczymy perspektywę na realizację”.
W oświadczeniu prasowym Canon stwierdził, że jego technologia nanoimprint umożliwia tworzenie wzorów z minimalną szerokością linii 14 nm, co jest równe technologii 5 nm. Z dalszym doskonaleniem technologii maski, litografia nanoimprint umożliwić ma przygotowywanie wzorów obwodów z minimalną szerokością linii 10 nm, co odpowiada węzłowi 2 nm, jak zapewniła firma. Gupta powiedział, że dowodem na skuteczność technologii będzie jej komercyjne przyjęcie. „Nabrałbym większej pewności, gdyby jakiś producent układów scalonych ją wdrożył, a następnie ogłosił, że sprawność i wydajność są równoważne lub zbliżone do konwencjonalnej litografii. Ponadto, jeśli może działać w węźle 5 nm, to oznacza, że może operować w węźle 28 nm lub 14 nm bez problemu. Jak to się dzieje, że nikt w Japonii ani nigdzie indziej jeszcze tego nie wdrożył? Jeśli jest tak obiecująca, dlaczego czekać, aby technologia była gotowa tylko w węźle 5 nm, dlaczego nie w starszym czy dojrzałym, gdzie mogłoby to być łatwiejsze?” — pyta analityk.
Nanoimprint może mieć potencjalne zastosowania w produkcji układów pamięci, które są bardziej tolerancyjne na problemy związane z defektywnością niż logika, wskazał Robert Maire, prezes Semiconductor Advisors, w biuletynie dostarczonym EE Times. Nanoimprint działa w niższej rozdzielczości i jest daleki od bycia rzeczywistym, wysokowydajnym rozwiązaniem produkcyjnym, dodał. „Defektywność i kalibracja są wiecznymi problemami i ograniczeniami nanoimprintu” — powiedział Maire. „Chwalimy firmę Canon za znakomite postępy, jakie dokonała dzięki nieustannej inżynierii, z której znane są japońskie firmy, ale podstawowe ograniczenia techniczne wciąż istnieją”.
Jedną z zalet narzędzia nanoimprint jest mniejszy ślad węglowy, twierdzi Canon. Ponieważ nowy produkt nie wymaga źródła światła o specjalnej długości fali, może znacznie zmniejszyć wykorzystanie energii w porównaniu z urządzeniami fotolitograficznymi, donosi firma. Sprzęt EUV od ASML zużywa dużo zasobów do wyparowywania kropli cyny, które emitują światło EUV o bardzo krótkiej długości fali wynoszącej 13,5 nanometra. Canon zakupił część technologii nanoimprint, gdy w 2014 roku przejął firmę Molecular Imprints z Teksasu, informuje Maire. To może sprawić, że narzędzie Canona będzie podlegać weryfikacjom eksportowym USA w odniesieniu do wrażliwej technologii w stosunku do Chin. Współpraca japońskiego rządu z USA w zakresie kontroli eksportu ograniczy również zdolność Państwa Środka do pozyskania takiego rozwiązania, dodał Gupta. „Jeśli okaże się, że technologia jest na tyle gotowa i dojrzała, aby wspierać zaawansowaną logikę, jestem pewien, że Stany Zjednoczone będą w stanie współpracować z japońskim rządem, aby dodać ją, w określonych granicach, do eksportu do Chin”.
Źródło: https://www.eetimes.com/canon-litho-tool-years-from-commercial-use-analysts-say/
Fajne? Ranking DIY
